深度聚焦！面壁智能CEO李大海：开源赋能，大模型创新之路更宽广

面壁智能CEO李大海：开源赋能，大模型创新之路更宽广

北京，2024年6月18日 - 在近日举办的2024北京智源大会上，面壁智能CEO李大海发表演讲，分享了面壁智能在人工智能大模型领域的技术创新与实践，并强调了开源对于人工智能产业发展的重要性。

李大海表示，面壁智能始终坚持开源开放的理念，认为开源是推动人工智能技术进步和产业发展的关键动力。开源可以让更多开发者参与到大模型的研发和应用中，汇聚更多智慧和力量，从而加速大模型的技术创新和应用落地。

面壁智能为此推出了全面的开源开放策略，包括：

• 开源大模型代码：面壁智能将旗下包括悟道2.0在内的多款大模型代码全部开源，降低了开发者的准入门槛，使更多开发者能够参与到大模型的研发和应用中。
• 开源数据集：面壁智能还开源了多个高质量的AI数据集，为开发者提供丰富的训练资源，助力开发者快速构建和训练AI模型。
• 开放开发平台：面壁智能开放了其AI开发平台，为开发者提供一站式AI开发环境，

光刻机概念再掀热潮 国风新材连收四涨停

北京 - 6月17日，A股市场光刻机概念板块再度走强，多只相关股票涨幅居前，其中国风新材(SZ: 002879)更是连收四个涨停板，涨势喜人。

利好政策频出 产业发展前景广阔

近期，利好政策频出，为光刻机产业发展注入强劲动力。5月，国务院印发了《新一代信息技术产业发展规划》，明确提出要大力发展光刻机等关键核心技术。6月，国家发展改革委、工业和信息化部等部门联合印发了《关于加快推进产业数字化转型升级的指导意见》，提出要加快关键技术攻关，突破光刻机等重大技术瓶颈。

在政策的利好推动下，光刻机产业发展前景广阔。据市场研究机构预测，未来几年全球光刻机市场将保持快速增长，预计到2025年市场规模将突破2000亿美元。

国风新材深耕光刻胶领域 研发实力雄厚

国风新材是国内领先的光刻胶材料研发商和生产商，公司深耕光刻胶领域多年，研发实力雄厚，拥有多项核心技术专利。公司产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED等领域，并已与多家国内外知名企业建立了合作关系。

近年来，国风新材不断加大研发投入，积极攻克光刻机关键技术，取得了显著成果。公司成功研发了多款高性能光刻胶产品，填补了国内空白，打破了国外技术垄断。

未来可期 强者恒强

在光刻机概念板块走强的背景下，国风新材的强势表现无疑是其自身实力的体现。公司未来发展可期，有望在光刻机国产化进程中扮演重要角色。

行业人士表示，光刻机是集成电路制造的核心设备，是国家信息安全和产业自主的重要基础。随着国内半导体产业的快速发展，光刻机国产化需求日益迫切。在政策支持和市场需求的共同推动下，光刻机产业有望迎来爆发式增长。

投资者应理性投资 关注公司基本面

不过，业内人士也提醒投资者，应理性投资，关注公司基本面。光刻机产业技术壁垒较高，竞争激烈，投资者在投资时应谨慎评估公司的研发实力、产品竞争力等因素。

免责声明

本新闻仅供参考，不构成投资建议。投资者应自行判断并承担投资风险。